紫外激光直写光刻机，UV-Writer

UV-Writer是一个高价值的激光直写光刻机，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。
它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。
我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，最大限度地利用现成的部件，而不牺牲书写质量或功能。
直接激光书写光刻
直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖，大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。

High resolution lithography

sub-micron resolution and produce 10um features.
Big writing area

make full size photomasks for production or in-house usage.

Change spot sizes easily

The last lens is an industry standard microscope objective. Replace it to change the spot size!  We include three microscope objectives.
Use the optics for inspection

Using the confocal yellow illumination and camera you can use the µLaser as a microscope

375nm Laser

Rotary stage for alignment

UV-Writer随其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。
一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的，它允许您在执行之前预览要编写的设计。
除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外，还可以在单个过程中组合多个设计。
在确定了设计方案后，采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。
使用它们，您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。
接下来执行该过程并将设计写在表面上。

技术指标：
XY工作台
典型写入速度：100-120 mm/s
最大面积：100x92 mm^2
最小面积：没有最小面积
单向定位台阶：X=0.16µm，Y=1.00µm
慢速X轴上的机械噪声：<1µm
快速Y轴上的机械噪声：<1µm
多层对准精度：5-10µm（可选旋转台，便于对准）
实际最小特征尺寸：6-15µm，取决于特征（示例见下图）

软件
支持的格式：PNG、GDSII
在软件转换：，旋转、反射、反转、重缩放、添加边框
-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计
-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿
-全床曲率补偿的网格型标定

光学
-激光波长：405nm（可选375nm）
-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜
-二次独立黄色照明
-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变

精度：
-精细：0.8µm
-介质：2µm
-粗粒：5µm

大面积包含目标的有效书写速度（单向书写）：
-精细：1.7 mm^2/min
-中等：4.25 mm^2/min
-粗糙度：10.6 mm^2/min
在双向写入模式下速度加倍。